日本MICRO微方UVC深紫外UVC40x36斑點(diǎn)照射用

日本MICRO微方UVC深紫外UVC40x36斑點(diǎn)照射用

技術(shù)核心與創(chuàng)新設(shè)計(jì)

日本MICRO微方UVC40x36深紫外照射器采用第四代UVC-LED陣列技術(shù)，通過光學(xué)透鏡系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)40mm×36mm矩形區(qū)域的±5%照度均勻性（10mm工作距離）。設(shè)備支持265nm、280nm、365nm、385nm、405nm五波段可選，其中UVC波段（265-280nm）峰值輻照度達(dá)400mW/cm2，UV-A波段（365-405nm）最高可達(dá)500mW/cm2。內(nèi)置閉環(huán)水冷系統(tǒng)可將LED結(jié)溫控制在45℃以下，確保2000小時光衰小于3%。

模塊化設(shè)計(jì)允許4臺設(shè)備并聯(lián)擴(kuò)展至70×40mm照射范圍，配備M4螺紋孔與磁吸底座，兼容機(jī)械臂集成或手持操作。整機(jī)重量1.4kg，IP54防護(hù)等級適應(yīng)工業(yè)環(huán)境，10,000小時壽命顯著降低耗材成本。

行業(yè)應(yīng)用解決方案

1. 電子制造領(lǐng)域
   在PCB板件保護(hù)膜固化中，265nm波段可實(shí)現(xiàn)3秒內(nèi)完成0.1mm厚膠層固化，同時滅活表面99%以上大腸桿菌（40mJ/cm2劑量）。微型攝像頭模組粘接時，365nm波段配合0.5mm光斑附件精準(zhǔn)定位，避免CMOS傳感器熱損傷。

2. 醫(yī)療設(shè)備生產(chǎn)
   用于內(nèi)窺鏡密封膠固化時，280nm波段同步破壞生物膜DNA結(jié)構(gòu)，達(dá)到ISO 15858標(biāo)準(zhǔn)要求的消毒效果。相較傳統(tǒng)汞燈方案，能耗降低60%且無臭氧排放。

3. 科研與微加工
   在微流控芯片鍵合實(shí)驗(yàn)中，405nm波段透過PDMS材料直達(dá)粘接界面，5秒內(nèi)完成20×20mm區(qū)域固化，鍵合強(qiáng)度達(dá)2.5MPa以上。

市場差異化價(jià)值

與同類產(chǎn)品相比，UVC40x36"固化+消毒"雙模式：

• 工業(yè)模式：Focus模式輸出聚焦光束（中心照度提升30%）

• 衛(wèi)生模式：Wide模式擴(kuò)大照射角至60°實(shí)現(xiàn)表面滅菌

設(shè)備通過CE、RoHS認(rèn)證，配套智能控制器可預(yù)設(shè)100組照射參數(shù)，歷史數(shù)據(jù)追溯功能滿足GMP合規(guī)要求。作為MICRO微方工業(yè)UV產(chǎn)品線的機(jī)型，其兼顧精密加工與衛(wèi)生安全的特性，已廣泛應(yīng)用于日東電工、索尼半導(dǎo)體等制造場景。